सिलिकॉन कार्बाइड सबस्ट्रेट्स|SiC वेफर्स

संक्षिप्त वर्णन:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. हे वेफर आणि प्रगत सेमीकंडक्टर उपभोग्य वस्तूंमध्ये विशेषज्ञ असलेले अग्रगण्य पुरवठादार आहे.सेमीकंडक्टर उत्पादन, फोटोव्होल्टेइक उद्योग आणि इतर संबंधित क्षेत्रांना उच्च-गुणवत्तेची, विश्वासार्ह आणि नाविन्यपूर्ण उत्पादने प्रदान करण्यासाठी आम्ही समर्पित आहोत.

आमच्या उत्पादन लाइनमध्ये SiC/TaC लेपित ग्रेफाइट उत्पादने आणि सिरॅमिक उत्पादने समाविष्ट आहेत, ज्यामध्ये सिलिकॉन कार्बाइड, सिलिकॉन नायट्राइड, आणि ॲल्युमिनियम ऑक्साईड आणि इत्यादीसारख्या विविध सामग्रीचा समावेश आहे.

सध्या, शुद्धता 99.9999% SiC कोटिंग आणि 99.9% रीक्रिस्टलीकृत सिलिकॉन कार्बाइड प्रदान करणारे आम्ही एकमेव उत्पादक आहोत.जास्तीत जास्त SiC कोटिंगची लांबी आम्ही 2640mm करू शकतो.


उत्पादन तपशील

उत्पादन टॅग

SiC-वेफर

सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) सिंगल क्रिस्टल मटेरियलमध्ये मोठ्या बँड गॅप रुंदी (~Si 3 वेळा), उच्च थर्मल चालकता (~Si 3.3 पट किंवा GaAs 10 पट), उच्च इलेक्ट्रॉन संपृक्तता स्थलांतर दर (~Si 2.5 पट), उच्च ब्रेकडाउन इलेक्ट्रिक फील्ड (~Si 10 वेळा किंवा GaAs 5 वेळा) आणि इतर उत्कृष्ट वैशिष्ट्ये.

उच्च तापमान, उच्च दाब, उच्च वारंवारता, उच्च पॉवर इलेक्ट्रॉनिक उपकरणे आणि एरोस्पेस, लष्करी, अणुऊर्जा इत्यादीसारख्या अत्यंत पर्यावरणीय अनुप्रयोगांच्या क्षेत्रात SiC उपकरणांचे अपरिवर्तनीय फायदे आहेत, जे व्यावहारिकदृष्ट्या पारंपारिक सेमीकंडक्टर मटेरियल उपकरणांच्या दोषांची पूर्तता करतात. ऍप्लिकेशन्स, आणि हळूहळू पॉवर सेमीकंडक्टरचा मुख्य प्रवाह बनत आहेत.

4H-SiC सिलिकॉन कार्बाइड सब्सट्रेट तपशील

आयटम项目

तपशील参数

पॉलीटाइप
晶型

4H -SiC

6H- SiC

व्यासाचा
晶圆直径

2 इंच |3 इंच |4 इंच |6 इंच

2 इंच |3 इंच |4 इंच |6 इंच

जाडी
厚度

330 μm ~ 350 μm

330 μm ~ 350 μm

वाहकता
导电类型

एन - प्रकार / अर्ध-इन्सुलेटिंग
N型导电片/ 半绝缘片

एन - प्रकार / अर्ध-इन्सुलेटिंग
N型导电片/ 半绝缘片

डोपंट
掺杂剂

N2 ( नायट्रोजन ) V ( व्हॅनॅडियम )

N2 ( नायट्रोजन ) V ( व्हॅनॅडियम )

अभिमुखता
晶向

अक्षावर <0001>
बंद अक्ष <0001> 4° बंद

अक्षावर <0001>
बंद अक्ष <0001> 4° बंद

प्रतिरोधकता
电阻率

0.015 ~ 0.03 ओम-सेमी
(4H-N)

0.02 ~ 0.1 ओम-सेमी
(6H-N)

मायक्रोपाईप घनता (MPD)
微管密度

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

≤ 15 μm

धनुष्य / ताना
翘曲度

≤25 μm

≤25 μm

पृष्ठभाग
表面处理

डीएसपी/एसएसपी

डीएसपी/एसएसपी

ग्रेड
产品等级

उत्पादन / संशोधन श्रेणी

उत्पादन / संशोधन श्रेणी

क्रिस्टल स्टॅकिंग अनुक्रम
堆积方式

ABCB

ABCABC

जाळी पॅरामीटर
晶格参数

a=3.076A , c=10.053A

a=3.073A , c=15.117A

उदा/eV(बँड-गॅप)
禁带宽度

3.27 eV

3.02 eV

ε (डायलेक्ट्रिक स्थिरांक)
介电常数

९.६

९.६६

अपवर्तन निर्देशांक
折射率

n0 =2.719 ne =2.777

n0 =2.707 , ne =2.755

6H-SiC सिलिकॉन कार्बाइड सब्सट्रेट तपशील

आयटम项目

तपशील参数

पॉलीटाइप
晶型

6H-SiC

व्यासाचा
晶圆直径

4 इंच |6 इंच

जाडी
厚度

350μm ~ 450μm

वाहकता
导电类型

एन - प्रकार / अर्ध-इन्सुलेटिंग
N型导电片/ 半绝缘片

डोपंट
掺杂剂

N2 ( नायट्रोजन )
V ( व्हॅनेडियम )

अभिमुखता
晶向

<0001> 4°± 0.5° बंद

प्रतिरोधकता
电阻率

0.02 ~ 0.1 ओम-सेमी
(6H-N प्रकार)

मायक्रोपाईप घनता (MPD)
微管密度

≤ 10/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

धनुष्य / ताना
翘曲度

≤25 μm

पृष्ठभाग
表面处理

सी फेस: सीएमपी, एपि-रेडी
C चेहरा: ऑप्टिकल पोलिश

ग्रेड
产品等级

संशोधन श्रेणी

सेमिसेरा कामाची जागा सेमिसेरा कामाची जागा 2 उपकरणे मशीन CNN प्रक्रिया, रासायनिक स्वच्छता, CVD कोटिंग आमची सेवा


  • मागील:
  • पुढे: