सेमिसेराअभिमानाने त्याची अत्याधुनिकता सादर करतेGaN Epitaxyसेमीकंडक्टर उद्योगाच्या सतत विकसित होत असलेल्या गरजा पूर्ण करण्यासाठी डिझाइन केलेल्या सेवा. Gallium nitride (GaN) ही त्याच्या अपवादात्मक गुणधर्मांसाठी ओळखली जाणारी सामग्री आहे आणि आमच्या एपिटॅक्सियल वाढीच्या प्रक्रियेमुळे हे फायदे तुमच्या डिव्हाइसेसमध्ये पूर्णपणे जाणवले आहेत.
उच्च-कार्यक्षमता GaN स्तर सेमिसेराउच्च-गुणवत्तेच्या उत्पादनात माहिर आहेGaN Epitaxyथर, अतुलनीय सामग्रीची शुद्धता आणि संरचनात्मक अखंडता देतात. हे स्तर पॉवर इलेक्ट्रॉनिक्सपासून ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्सपर्यंतच्या विविध ऍप्लिकेशन्ससाठी महत्त्वपूर्ण आहेत, जेथे उत्कृष्ट कार्यप्रदर्शन आणि विश्वासार्हता आवश्यक आहे. आमची अचूक वाढ तंत्रे हे सुनिश्चित करतात की प्रत्येक GaN स्तर अत्याधुनिक उपकरणांसाठी आवश्यक असलेल्या अचूक मानकांची पूर्तता करतो.
कार्यक्षमतेसाठी अनुकूलितदGaN EpitaxySemicera द्वारे प्रदान केलेले विशेषत: आपल्या इलेक्ट्रॉनिक घटकांची कार्यक्षमता वाढविण्यासाठी इंजिनियर केले आहे. कमी-दोष, उच्च-शुद्धता GaN स्तर वितरीत करून, आम्ही कमी पॉवर लॉससह, उच्च फ्रिक्वेन्सी आणि व्होल्टेजवर ऑपरेट करण्यास डिव्हाइस सक्षम करतो. हे ऑप्टिमायझेशन उच्च-इलेक्ट्रॉन-मोबिलिटी ट्रान्झिस्टर (HEMTs) आणि प्रकाश-उत्सर्जक डायोड्स (LEDs) सारख्या अनुप्रयोगांसाठी महत्त्वाचे आहे, जेथे कार्यक्षमता सर्वोपरि आहे.
अष्टपैलू अर्ज संभाव्य सेमिसेराच्याGaN Epitaxyअष्टपैलू आहे, उद्योग आणि अनुप्रयोगांच्या विस्तृत श्रेणीची पूर्तता करते. तुम्ही पॉवर ॲम्प्लीफायर, RF घटक किंवा लेसर डायोड विकसित करत असलात तरीही, आमचे GaN एपिटॅक्सियल स्तर उच्च-कार्यक्षमता, विश्वासार्ह उपकरणांसाठी आवश्यक पाया प्रदान करतात. आमची प्रक्रिया विशिष्ट आवश्यकता पूर्ण करण्यासाठी तयार केली जाऊ शकते, तुमच्या उत्पादनांनी इष्टतम परिणाम मिळतील याची खात्री करून.
गुणवत्तेशी बांधिलकीगुणवत्ता हा आधारशिला आहेसेमिसेराच्या दृष्टीकोनातूनGaN Epitaxy. आम्ही उत्कृष्ट एकसमानता, कमी दोष घनता आणि उत्कृष्ट सामग्री गुणधर्म प्रदर्शित करणाऱ्या GaN स्तर तयार करण्यासाठी प्रगत एपिटॅक्सियल वाढ तंत्रज्ञान आणि कठोर गुणवत्ता नियंत्रण उपाय वापरतो. गुणवत्तेची ही वचनबद्धता हे सुनिश्चित करते की तुमची उपकरणे केवळ उद्योग मानकांची पूर्तता करत नाहीत तर ते ओलांडतात.
नाविन्यपूर्ण वाढ तंत्र सेमिसेराच्या क्षेत्रात नाविन्यपूर्ण क्षेत्रात आघाडीवर आहेGaN Epitaxy. आमची कार्यसंघ वाढीच्या प्रक्रियेत सुधारणा करण्यासाठी सतत नवीन पद्धती आणि तंत्रज्ञानाचा शोध घेते, वर्धित इलेक्ट्रिकल आणि थर्मल वैशिष्ट्यांसह GaN स्तर प्रदान करते. या नवकल्पना चांगल्या-कार्यक्षम उपकरणांमध्ये अनुवादित करतात, जे पुढील पिढीच्या अनुप्रयोगांच्या मागण्या पूर्ण करण्यास सक्षम आहेत.
तुमच्या प्रकल्पांसाठी सानुकूलित उपायप्रत्येक प्रकल्पाला विशिष्ट आवश्यकता आहेत हे ओळखून,सेमिसेरासानुकूलित ऑफरGaN Epitaxyउपाय तुम्हाला विशिष्ट डोपिंग प्रोफाइल, लेयरची जाडी किंवा पृष्ठभाग पूर्ण करण्याची आवश्यकता असली तरीही, तुमच्या नेमक्या गरजा पूर्ण करणारी प्रक्रिया विकसित करण्यासाठी आम्ही तुमच्यासोबत काम करतो. आमचे ध्येय तुम्हाला GaN स्तर प्रदान करणे आहे जे तुमच्या डिव्हाइसच्या कार्यक्षमतेला आणि विश्वासार्हतेला समर्थन देण्यासाठी अचूकपणे इंजिनियर केलेले आहेत.
वस्तू | उत्पादन | संशोधन | डमी |
क्रिस्टल पॅरामीटर्स | |||
पॉलीटाइप | 4H | ||
पृष्ठभाग अभिमुखता त्रुटी | <11-20 >4±0.15° | ||
इलेक्ट्रिकल पॅरामीटर्स | |||
डोपंट | n-प्रकार नायट्रोजन | ||
प्रतिरोधकता | 0.015-0.025ohm·cm | ||
यांत्रिक मापदंड | |||
व्यासाचा | 150.0±0.2 मिमी | ||
जाडी | 350±25 μm | ||
प्राथमिक फ्लॅट अभिमुखता | [१-१००]±५° | ||
प्राथमिक सपाट लांबी | ४७.५±१.५ मिमी | ||
दुय्यम फ्लॅट | काहीही नाही | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm(5mm*5mm) | ≤5 μm(5mm*5mm) | ≤10 μm(5mm*5mm) |
धनुष्य | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
ताना | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
समोरचा (सि-फेस) उग्रपणा (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
रचना | |||
मायक्रोपाईप घनता | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
धातूची अशुद्धता | ≤5E10 अणू/cm2 | NA | |
बीपीडी | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
समोरची गुणवत्ता | |||
समोर | Si | ||
पृष्ठभाग समाप्त | सी-फेस सीएमपी | ||
कण | ≤60ea/वेफर (आकार≥0.3μm) | NA | |
ओरखडे | ≤5ea/मिमी. संचयी लांबी ≤ व्यास | संचयी लांबी≤2*व्यास | NA |
संत्र्याची साल/खड्डे/डाग/दाग/विवरे/दूषितता | काहीही नाही | NA | |
एज चिप्स/इंडेंट्स/फ्रॅक्चर/हेक्स प्लेट्स | काहीही नाही | ||
पॉलीटाइप क्षेत्रे | काहीही नाही | संचयी क्षेत्र≤20% | संचयी क्षेत्र≤30% |
फ्रंट लेसर मार्किंग | काहीही नाही | ||
परत गुणवत्ता | |||
परत समाप्त | सी-फेस सीएमपी | ||
ओरखडे | ≤5ea/mm, संचयी लांबी≤2*व्यास | NA | |
मागील दोष (एज चिप्स/इंडेंट) | काहीही नाही | ||
मागे उग्रपणा | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
मागे लेसर मार्किंग | 1 मिमी (वरच्या काठावरुन) | ||
काठ | |||
काठ | चांफर | ||
पॅकेजिंग | |||
पॅकेजिंग | व्हॅक्यूम पॅकेजिंगसह एपी-तयार मल्टी-वेफर कॅसेट पॅकेजिंग | ||
*नोट्स: "NA" म्हणजे विनंती नाही, उल्लेख न केलेल्या बाबी SEMI-STD चा संदर्भ घेऊ शकतात. |